Συντάχθηκε 25-09-2023 13:22
Τόπος:
Έναρξη: 10/10/2023 10:00
Λήξη: 10/10/2023 11:00
ΠΟΛΥΤΕΧΝΕΙΟ ΚΡΗΤΗΣ
ΣΧΟΛΗ ΜΗΧΑΝΙΚΩΝ ΠΑΡΑΓΩΓΗΣ ΚΑΙ ΔΙΟΙΚΗΣΗΣ
Ονοματεπώνυμο: Λιαπάκης Μιχαήλ
Αριθμός Μητρώου: 2015010078
Θέμα
Ελληνικά: Τεχνικές ανάπτυξης λεπτών υμενίων
Αγγλικά: Thin films deposition techniques
Εξεταστική Επιτροπή:
Επιβλέπων: Κονσολάκης Μιχάλης, Καθηγητής
Πρώτο Μέλος: Παπαευθυμίου Σπυρίδων, Καθηγητής
Δεύτερο Μέλος: Ιψάκης Δημήτρης, Επίκ. Καθηγητής
Περίληψη
Ελληνικά: Στον τομέα της σύγχρονης επιστήμης και τεχνολογίας υλικών, οι τεχνικές εναπόθεσης λεπτών υμενίων αποτελούν ουσιαστικά εργαλεία για την τροποποίηση των ιδιοτήτων των υλικών στη νανοκλίμακα. Αυτή η διπλωματική εργασία περιλαμβάνει μια σφαιρική και λεπτομερή ανασκόπηση των τεχνικών εναπόθεσης λεπτών υμενίων με έμφαση στην κατασκευή ενός καινοτόμου Θαλάμου Φυσικής Εναπόθεσης Ατμών (Physical Vapor Deposition) ως πειραματική εφαρμογή. Το πρώτο μέρος περιλαμβάνει μια λεπτομερή διερεύνηση της ιστορικής εξέλιξης, των βασικών αρχών, των τρόπων ανάπτυξης και των ποικίλων μεθοδολογιών που υποστηρίζουν την εναπόθεση λεπτών υμενίων. Από τις πρώτες παρατηρήσεις του Faraday μέχρι την περίπλοκη επιταξία μοριακής δέσμης (MBE), αυτή η ανασκόπηση καλύπτει τεχνικές που έχουν διαμορφώσει τον τομέα. Αυτό θέτει το έδαφος για την επόμενη φάση, όπου σχεδιάζεται, κατασκευάζεται και συναρμολογείται προσεκτικά ένας προσαρμοσμένος θάλαμος εξάχνωσης. Ο θάλαμος λειτουργεί ως ευέλικτη πλατφόρμα για την ελεγχόμενη εναπόθεση λεπτών υμενίων. Η παρούσα διπλωματική εργασία συμβάλλει όχι μόνο στην κατανόηση της ανάπτυξης λεπτών υμενίων αλλά παρέχει και μια πρακτική υλοποίηση των εξερευνημένων αρχών. Συνδυάζοντας ιστορικές αντιλήψεις με πρακτική εφαρμογή, αυτή η διπλωματική εργασία προσφέρει μια ολιστική άποψη των τεχνικών εναπόθεσης λεπτών υμενίων και της εφαρμογής τους σε προηγμένες πειραματικές συσκευές, υπογραμμίζοντας τον καίριο ρόλο αυτών των τεχνικών στη διαμόρφωση της σύγχρονης επιστήμης και τεχνολογίας υλικών.
Αγγλικά: In the realm of modern materials science and technology, thin film deposition techniques stand as integral tools for tailoring material properties at the nanoscale. This thesis embarks on a comprehensive journey that melds a thorough review of thin film deposition techniques with the construction of a novel Physical Vapor Deposition (PVD) chamber. The initial phase of the study involves an extensive survey of the historical evolution, underlying principles, and diverse methodologies underpinning thin film deposition. From the early observations of Faraday to the intricate molecular beam epitaxy, this review encapsulates the rich tapestry of techniques that have shaped the field. This exploration sets the stage for the subsequent phase, wherein a custom PVD chamber is meticulously designed, fabricated, and integrated. The chamber, an intricate amalgamation of precision engineering and materials science, serves as a versatile platform for controlled thin film deposition. This work not only seeks to contribute to the foundational knowledge of thin film growth but also establishes a tangible embodiment of the principles explored. Through the tandem progression of historical insight and practical implementation, this thesis offers a holistic perspective on the dynamic world of thin film deposition techniques and their translation into advanced experimental apparatuses. The combined journey underscores the pivotal role of these techniques in shaping modern materials science and technology.
Ημερομηνία Εξέτασης
Ημέρα/Μήνας/Έτος: 10/02/2023
Ώρα: 10:00
Χώρος Εξέτασης
Η παρουσίαση θα γίνει με τηλεδιάσκεψη : https://tuc-gr.zoom.us/j/96956792676?pwd=c2VteUd5c3hwQTVPK2xVekh5aXlyQT09
